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“只是,这台积电如今展势头良好,又怎么可能平白无故跟我合作,再说我就这么去,意图也太明显了。”
办公室里,楚天耀托着下巴,陷入了思考当中。
他之所以能有今日,并非是因为他天生就比别人聪明,而是楚天耀作为重生者,深度掌握了三十年后的大势。
光刻机可是高端制造企业的命门,所以他才会如此看重。
而眼下正是各国光刻机展最为初期的时候,这时候他不想办法弯道车,提前入场,只怕再过几年等米国等国醒悟过来,开始搞技术封锁,那到时候对华夏而言,才是重大打击。
“只是,光刻机技术可是核心,阿斯麦虽然不错但眼下已经被米国把控,再过几年应该就能生产出高端光刻机了,拿到他们的技术显然是不可能了,剩下的企业里,还能做出光刻机的……”
自言自语之时,楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本杂志。
那是一本宣传相机的杂志,封面上便是来自岛国尼康的相机。
“对了,我怎么把他给忘了。”
楚天耀眼前一亮,这才想起自己差点忘记了一件极其重要的事。
“仔细算算时间,眼下正是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争的开始,而尼康公司也正是因为押错了宝,所以才跌落神坛。”
楚天耀神色有些激动,正是因为他重生而来的记忆,让他又一次敏锐的察觉到了一次巨大的机缘。
说起这157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法,其实只是光刻机两种不同技术。
放眼九十年代,光刻机的光源波长还被卡死在193nm,成为了全产业的面前的一道难关。
只有将光源波长做的越短,芯片的精度才会越高。
而率先研出高精度芯片的企业,注定会领跑整个行业,将其他企业牢牢地摔在身后。
而针对这项技术,市面上出现了两种方法。
那就是157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法。
尼康等公司主张在前代的技术基础上,采用157nm的f2激光,走稳健道路。
而新生的euv11c联盟,则押注于更激进的极紫外技术,用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。
但不管是这两种技术中的哪一种,技术要求都极其不易。
然而在这个时候,台积电一个叫做林本间的鬼才工程师出现了。
降低光的波长,光源出是根本方法,高中学生都知道,水会影响光的折射率。
在透镜和硅片之间加一层水,原有的193nm激光经过折射,不就直接越过了157nm的天堑,降低到132nm了!
林本间拿着这项沉浸式光刻方案,兴奋的跑去了米国、德国以及岛国,游说各家半导体巨头。
然而他的方案最终并没有得到认可,甚至还有不少人觉得这家伙就是来搞事的,甚至不止一次警告台积电。
毕竟这只是理想情况,在精密的机器中加水构建浸润环境,既要考虑实际性能,又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案,耽误了光源研究,吃力不讨好只是其次,被对手反可就不好看了。
所以,作为大厂的尼康,选择了在157nm上一条道走到黑,进行光刻机的技术突破。
而在这个时候,也正是阿斯麦公司登场的时候。
一个位于丹麦,只有几十人团队的小角色。
谁都没有想到,阿斯麦竟然和林本间一拍即合,二者赌了一波大的,竟然真的在几年后研出了第一台样机。
也正是因为先人一步,他们成功拿下了ibm和台积电等大客户的订单,一跃成为了光刻机大厂。
然而,尼康虽然靠着技术突破,也研出了干式微影157nm技术的成品,但毕竟被阿斯麦抢了风头,更何况波长还略落后于对手,等到一年后又完成了对浸润式技术的追赶,客户却已经不承认“老情人”,毕竟光刻机又不是小朋友玩具,更替要钱,学习更要成本。
至此,尼康在光刻机舞台上,正式黯然离场。
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